Учебно-научная лаборатория «Плазменные технологии»

Учебно-научная лаборатория «Плазменные технологии» является структурным подразделением КРСУ и имеет целью углубление и укрепление теоретических знаний получаемых студентами в процессе изучения специальных курсов: «Основы плазменной обработки материалов», "Основы газовой электроники", «Практикум по плазменным технологиям». В процессе проведения лабораторных работ студенты приобретают навыки экспериментальных исследований газовых разрядов, знакомятся с измерением различных физических параметров разрядов, осваивают методы обработки и представления экспериментальных физических исследований.
Учебно-научная лаборатория находится в аудитории 6/113. Общая площадь лабораторных помещений составляет 60 м2.
 
Инженерно-технический состав лаборатории:
  1. Зав. лабораторией – Токарев Андреан Валентинович
​
 
  1. Ведущий инженер –
  2. Инженер 1 категории – Исаев Денис Андреевич
 
Ведущим преподавателем является:
  1. К.ф.-м.н. Токарев Андреан Валентинович
 
Список закреплённых дисциплин:
  1. Основы плазменной обработки материалов
  2. Основы газовой электроники
  3. Практикум по плазменных технологиям
  4. Технологическая практика
  5. Преддипломная практика
 
Техническая оснащенность лаборатории:
Учебно-научная лаборатория «Плазменные технологии» имеет 15 лабораторных работ:
 
№ п/п Название лабораторной работы
1. Лабораторный комплекс  Вольтамперная характеристика дуги переменного тока. Оборудование: Персональный компьютер, Штатив, угольные электроды, источник питания, вольтметр, амперметр, штангенциркуль, реостат, осциллограф.
2. Лабораторный комплекс  Изучение термоэлектронной эмиссии. Оборудование: Персональный компьютер, Термоэмиссионный диод, вольтметры, амперметры, экспериментальный стенд.
3. Лабораторный комплекс  Изучение влияния пространственного заряда на вольт-амперную характеристику термотока. Оборудование: Персональный компьютер, Термоэмиссионный диод, вольтметры, амперметры, экспериментальный стенд.
4. Лабораторный комплекс Характеристики коронных разрядов различного типа. Оборудование: Персональный компьютер, разрядные электродные системы, высоковольтный источник питания, вольтметр, амперметр, штангенциркуль, реостат, осциллограф, импульсный генератор, частотомер
5. Лабораторный комплекс  Изучение термоэлектронной эмиссии при малых плотностях эмиссионного тока. Оборудование: Персональный компьютер, Термоэмиссионный диод, вольтметры, амперметры, экспериментальный стенд.
6. Лабораторный комплекс  Проверка формулы Пика. Оборудование: Персональный компьютер, разрядные электродные системы, высоковольтный источник питания, вольтметр, амперметр, штангенциркуль, реостат, осциллограф, импульсный генератор, частотомер.
7. Лабораторный комплекс   Газоразрядные стабилизаторы напряжения и линейные индикаторы. Оборудование: Индикатор тлеющего разряда ИН–10, стабилитрон тлеющего разряда СГ–201,Вольтметры, амперметры, источник питания, набор резисторов.
8. Лабораторный комплекс Полуавтоматическая сварка. Оборудование: Персональный компьютер, разрядные электродные системы, источник питания, аппарат полуавтоматической сварки.
9. Технологический комплекс Плазменная резка металлов. Оборудование. Портальный аппарат по плазменной резке материалов.
10 Лабораторный комплекс Аргоно-дуговая сварка. Оборудование: Персональный компьютер, разрядные электродные системы, источник питания, аппарат аргоно-дуговой сварки.
11 Лабораторный комплекс . Озон и его получение. Оборудование: Персональный компьютер, озонатор, разрядные ячейки, спектрофотометр, высоковольтные источники питания, осциллограф, контрольно-измерительные приборы.
12 Лабораторный комплекс Изучение методов определения концентрации озона. Оборудование: Персональный компьютер, озонатор, озонометр, набор реактивов, хим. посуда для проведения анализов, мерные колбы, бюретки, разрядные ячейки, спектрофотометр, высоковольтные источники питания.
13. Определение концентрации озона в зависимости от напряжения и расхода кислорода в озонаторе на барьерно – поверхностном типе разряда
14. Изучение кинетики синтеза озона из смесей газов.
15. Изучение барьерного- поверхностного разряда